領(lǐng)先的光刻光源制造商Gigaphoton, Inc.宣布推出“氖氣救援計劃”。該綜合性方案包括以下三項措施：為新的氣體供應(yīng)商提供快速資質(zhì)認證；限時免費(*1)使用Gigaphoton的eTGM技術(shù)以減少氖氣使用；加速推出公司最新的氣體回收技術(shù)hTGM?！澳蕷饩仍媱潯庇蒅igaphoton制定，用于立即幫助客戶應(yīng)對氖氣供應(yīng)和成本方面日益嚴峻的挑戰(zhàn)，這對維持穩(wěn)定的高產(chǎn)環(huán)境至關(guān)重要。

氖氣是激光器中氬氣(Ar)和氪氣(Kr)的緩沖氣體，用于半導體的制造。目前烏克蘭是氖氣的主要生產(chǎn)國，但由于國內(nèi)危機持續(xù)不斷，氖氣供應(yīng)減少已成為一個突出問題且正在引起人們的普遍擔憂。擔憂的原因不僅在于氖氣價格上漲，也包括 2015年開始的供應(yīng)短缺問題(*2)。對于作為全球氖氣主要消費者的半導體行業(yè)而言，這是一個嚴峻的局面。

為應(yīng)對這次危機，Gigaphoton早在2011年11月便宣布為所有新的和現(xiàn)有的GT系列ArF浸沒式激光器提供eTGM技術(shù)的限時免費使用?！澳蕷饩仍媱潯痹诖嘶A(chǔ)上提供了更全面的方案，內(nèi)容包括：

為客戶要求的新氣體供應(yīng)商提供快速的資質(zhì)認證方案。以前，新氣體供應(yīng)商需要六至十二個月才能完成測試和資質(zhì)認證。但現(xiàn)在根據(jù)新方案，客戶最快只需一個月時間便可使用新的氣體供應(yīng)商。 Gigaphoton限時免費的(*1) eTGM技術(shù)也將擴展到G41K系列KrF激光器和GT40A系列ArF激光器。這一擴展計劃將于2015年11月啟動。通過引進eTGM技術(shù)，KrF和ArF激光器可減少25%的氖氣用量，ArF浸沒式激光器可減少高達50%的氖氣用量。 加速推出Gigaphoton最新的氣體回收技術(shù)hTGM。該技術(shù)適用于所有類型的激光器。hTGM預(yù)計于2016年上市。采用hTGM技術(shù)后，客戶將可以回收高達50%的消耗氣體。

Gigaphoton總裁兼首席執(zhí)行官 Hitoshi Tomaru表示：“氖氣是半導體制造業(yè)不可或缺的氣體，我們認識到在當前情況下，持續(xù)的供應(yīng)危機是一個極為嚴重的問題，將會嚴重威脅生產(chǎn)的連續(xù)性。Gigaphoton將盡一切努力來支持客戶的穩(wěn)定生產(chǎn)，為此我們推出了三大措施：為氣體供應(yīng)商提供快速資質(zhì)認證、大幅減少氣體使用及盡早推出氣體回收技術(shù)?！?/p>